一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台
基本信息
| 申请号 | CN202122806544.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216378351U | 公开（公告）日 | 2022-04-26 |
| 申请公布号 | CN216378351U | 申请公布日 | 2022-04-26 |
| 分类号 | C23C14/08（2006.01）I;C23C14/22（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 宋永辉;王世宽;徐伟 | 申请（专利权）人 | 无锡尚积半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 江苏智天知识产权代理有限公司 | 代理人 | 陈文艳 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市新吴区长江南路35-312号厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台，应用在物理气相沉积领域，其技术方案要点是：包括真空筒和设置在真空筒内的载片组件，载片组件包括载片盘，载片盘的上表面设置有多个用于氧化钒沉积的衬底，载片盘的下方叠设有加热盘，加热盘上对应多个衬底的位置设置有多个加热腔体，多个加热腔体内设置有用于对衬底加热的电热辐射板，具有的技术效果是：通过在衬底的下方加入电热辐射板，同时配合加热腔体以及聚热腔体，可以实现对衬底进行更具针对性的加热，同时其受热更加均匀，进而实现氧化钒粒子均匀快速地在衬底上沉积。 |
