一种物理气相沉积源的移动装置及物理气相沉积装置
基本信息
| 申请号 | CN202111080316.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113846293A | 公开（公告）日 | 2021-12-28 |
| 申请公布号 | CN113846293A | 申请公布日 | 2021-12-28 |
| 分类号 | C23C14/22（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 宋永辉;王世宽 | 申请（专利权）人 | 无锡尚积半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州京昀知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 段晓玲;顾友 |
| 地址 | 214135江苏省无锡市新吴区长江南路35-312号厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种物理气相沉积源的移动装置及物理气相沉积装置，涉及物理气相沉积技术领域。移动装置包括：第一移动机构，与基座连接，用于带动所述基座在第一方向上往复移动；第二移动机构，与所述第一移动机构连接，所述第二移动机构用于带动所述第一移动机构以及所述基座在第二方向上往复移动，所述第一方向与所述第二方向为不同方向。本发明能够避免增加或更换靶材后带来的PVD SOURCE位置偏移，从而避免对PVD产品质量的影响。 |
