等离子弧光氮化涂层复合设备及氮化涂层连续工艺
基本信息
| 申请号 | CN201010101101.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102134706A | 公开（公告）日 | 2011-07-27 |
| 申请公布号 | CN102134706A | 申请公布日 | 2011-07-27 |
| 分类号 | C23C14/54(2006.01)I;C23C8/36(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 于宝海;于传跃;盛重春;陈子宇 | 申请（专利权）人 | 沈阳华俄科技发展有限公司 |
| 代理机构 | 沈阳科威专利代理有限责任公司 | 代理人 | 王勇 |
| 地址 | 110165 辽宁省沈阳市沈北新区辉山经济开发区辉山大街123-1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种等离子弧光氮化涂层复合设备及氮化涂层连续工艺，所要解决的问题是：辉光离子氮化的工件表面有轻微氧化且氮化时间长，会影响超硬膜的结合力和涂层质量，加工时间延长。本发明的要点是：等离子弧光氮化装置的阴极筒设置在真空室的上面，且与真空室连通，聚焦线圈设置在阴极筒的外面，气体混合室的出口和热丝伸入阴极筒里，等离子弧光电源上的转换开关的阳极和阴极分别接在真空室壁和阴极筒上，转换开关的另一阴极接在涂层装置的阴极弧光靶上。本发明的效果是：氮化涂层连续进行，降低成本。 |
