曝光设备

基本信息

申请号 CN201921877880.5 申请日 -
公开(公告)号 CN211580329U 公开(公告)日 2020-09-25
申请公布号 CN211580329U 申请公布日 2020-09-25
分类号 H05K3/06(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 方少平;樊群森;王欢;许志件 申请(专利权)人 惠州市三立诚科技有限公司
代理机构 广州市华学知识产权代理有限公司 代理人 刘羽
地址 516006广东省惠州市仲恺高新区东江高新科技产业园东兴片区东祥南路1号(2号厂房)第一栋
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型的曝光设备,通过设置台体套件及入料套件。若干L型定位凸起的设置,且各L型定位凸起上均设置有直角定位部,将菲林膜的四个边角一一对应与各直角定位部对准接触,再把PCB板的四个边角一一对应与各直角定位部对准接触,即可完成菲林膜与PCB板的精准对位,即各L型定位凸起均起到定位的作用,大大降低了因对位不准而产生的误差;此外,由于各L型定位凸起于远离玻璃滑板的位置处上均设置有圆角部,当封盖盖合时,封盖会与各L型定位凸起紧密接触,即封盖与玻璃滑板之间形成的空间小,容易保证曝光设备内部空间的真空率,让菲林膜与PCB板贴合的更加紧密;再者,若干散热槽体的设置能够增强曝光设备的散热性能。