一种反应源连接结构
基本信息
申请号 | CN202023030768.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN214060637U | 公开(公告)日 | 2021-08-27 |
申请公布号 | CN214060637U | 申请公布日 | 2021-08-27 |
分类号 | C23C16/54(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 唐允清 | 申请(专利权)人 | 福建兆元光电有限公司 |
代理机构 | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 林祥翔;徐剑兵 |
地址 | 350108福建省福州市闽侯县南屿镇生物医药和机电产业园区(现住所:闽侯县南屿镇新联村6号) | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种反应源连接结构,包括第一容器,第二容器,所述第一容器、第二容器均存放有反应源,所述第一容器的一通气端与供气装置连通,第一容器的另一通气端与第二容器的一通气端连通;所述第二容器的另一通气端与反应室连接。本方案的具体方式中,我们使用的两个反应源的串联组合的新的连接结构,由于前瓶溶度大于后瓶,当组合装置剩余量到预设浓度时即可换下,并且保证其中后瓶能够准确更换,旧源使用量可达100%,并且使用该新的连接结构后钢瓶内MO源饱和蒸汽压稳定(即浓度稳定),使外延性能波动极小,利于稳定性生产,达到反应源输入环境改善的技术效果。 |
