真空镀膜用可移动式磁力装置
基本信息
| 申请号 | CN201320510144.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN203419979U | 公开（公告）日 | 2014-02-05 |
| 申请公布号 | CN203419979U | 申请公布日 | 2014-02-05 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 冯新伟 | 申请（专利权）人 | 常州津通光电技术有限公司 |
| 代理机构 | 常州市维益专利事务所 | 代理人 | 王凌霄 |
| 地址 | 213164 江苏省常州市武进高新技术产业开发区西湖路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空镀膜用可移动式磁力装置，包括垂直设置的冷却基座、贴合安装在冷却基座侧表面的永磁铁，所述冷却基座上设有滑轨，永磁铁与冷却基座相贴的侧表面具有与滑轨相配的滑槽。本实用新型通过移动永磁铁位置，可均匀地耗用靶材的各个部分，充分发挥靶材的最大使用效率，降低成本，确保靶材消耗的均匀性。 |
