一种提高大型模具PVD膜层均匀性的方法
基本信息
| 申请号 | CN201811549499.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109576667A | 公开（公告）日 | 2019-04-05 |
| 申请公布号 | CN109576667A | 申请公布日 | 2019-04-05 |
| 分类号 | C23C14/50（2006.01）I; C23C14/54（2006.01）I; C23C14/35（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 夏原; 李光; 高方圆; 李明南 | 申请（专利权）人 | 吉林省力科科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京和信华成知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 中国科学院力学研究所; 吉林省力科科技有限公司 |
| 地址 | 100190 北京市海淀区北四环西路15号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种提高大型模具PVD膜层均匀性的方法，调节控制模具托盘的转动轴转速，实现模具PVD膜层的整体镀膜均匀性，无需在真空腔体内安装任何辅助装置，因此不会对PVD镀膜过程中的真空室各处磁场分布和沉积效率等决定品质的关键因素有任何的干扰和影响，可高效的应用于各类PVD设备。 |
