一种低电阻率氧化铌掺铌溅射旋转靶材及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201510180790.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104831243B | 公开（公告）日 | 2018-08-14 |
| 申请公布号 | CN104831243B | 申请公布日 | 2018-08-14 |
| 分类号 | C23C14/34;C22C29/12;C23C4/06;C23C4/134 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 罗永春;曾墩风;张斐;王志强 | 申请（专利权）人 | 厦门映日新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 | 代理人 | 芜湖映日科技有限公司 |
| 地址 | 241000 安徽省芜湖市芜湖经济技术开发区汽经一路5号1-005 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种低电阻率氧化铌掺铌溅射旋转靶材及其制备方法。所述靶材由97.5‑99.5重量％NbOx和0.4‑2.4重量％Nb，余下为杂质组成；其中0.05＜X＜2.5；优选2＜X＜2.5。制备时，先进行不锈钢背管的制备；然后混粉，烘干，真空等离子喷涂和机械加工得到。采用本发明的配方，并引进新的生产工艺，得到的产品电阻率更低，而且透过率更高，极大的提高了产品性能。透过率主要和下游镀膜厂家设计的膜厚度和膜组成结构有关系，靶材致密度高，可以使得镀膜时在同等厚度下的膜透过率较高。可广泛用于触摸屏、光学玻璃镀膜、TFT等领域，对行业的进步有极大的推动作用。 |
