一种高密度高纯度溅射旋转银靶材的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201510553247.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105039920A | 公开（公告）日 | 2015-11-11 |
| 申请公布号 | CN105039920A | 申请公布日 | 2015-11-11 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 罗永春;曾墩风;张斐;石煜 | 申请（专利权）人 | 厦门映日新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 | 代理人 | 厦门映日新材料科技有限公司;芜湖映日科技有限公司 |
| 地址 | 361000 福建省厦门市同安区苏厝路73号1#厂房第一层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种高密度高纯度溅射旋转银靶材的制备方法。首先将不锈钢按照客户要求加工好，然后用棕刚玉进行喷砂和用Cu-Al丝进行打底,打底层厚度为0.5毫米。再用碳化钨合金制作的拉瓦尔喷管对银粉进行喷涂，碳化钨设计的喷管结构如图1，银粉为球形粉末，粒度为5-45微米，氮气气压为3-5Mpa，氮气加热温度为400-500℃，送粉转速为6RPM。通过拉瓦尔喷管对粒子进行2次加速，将粒子速度提高到600-800m/s。采用本发明冷喷涂制备银靶材，具有工艺简单和组织致密的优点，靶材相对密度可以达到99.8%以上，靶材内部晶粒组织均匀细小，无缺陷组织。而且沉积效率高，降低生产成本。 |
