一种新型底发射垂直腔面发射激光器
基本信息
申请号 | CN201922210410.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN210074422U | 公开(公告)日 | 2020-02-14 |
申请公布号 | CN210074422U | 申请公布日 | 2020-02-14 |
分类号 | H01S5/183;H01S5/20 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 李迈克 | 申请(专利权)人 | 中证博芯(重庆)半导体有限公司 |
代理机构 | 重庆信航知识产权代理有限公司 | 代理人 | 中证博芯(重庆)半导体有限公司 |
地址 | 401573 重庆市合川区草街街道嘉合大道500号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供一种新型底发射垂直腔面发射激光器,包括顺序形成在衬底基板表面的下DBR、有源区域、氧化限制层、上DBR和上金属电极层,衬底基板底面形成有向表面延伸具有内外深度差的出光孔,出光孔内层底部与下DBR间距为d且0 |
