一种新型底发射垂直腔面发射激光器

基本信息

申请号 CN201922210410.X 申请日 -
公开(公告)号 CN210074422U 公开(公告)日 2020-02-14
申请公布号 CN210074422U 申请公布日 2020-02-14
分类号 H01S5/183;H01S5/20 分类 基本电气元件;
发明人 李迈克 申请(专利权)人 中证博芯(重庆)半导体有限公司
代理机构 重庆信航知识产权代理有限公司 代理人 中证博芯(重庆)半导体有限公司
地址 401573 重庆市合川区草街街道嘉合大道500号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型提供一种新型底发射垂直腔面发射激光器,包括顺序形成在衬底基板表面的下DBR、有源区域、氧化限制层、上DBR和上金属电极层,衬底基板底面形成有向表面延伸具有内外深度差的出光孔,出光孔内层底部与下DBR间距为d且0