一种新型DBR结构的VCSEL
基本信息
申请号 | CN201821740060.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN210640483U | 公开(公告)日 | 2020-05-29 |
申请公布号 | CN210640483U | 申请公布日 | 2020-05-29 |
分类号 | H01S5/183;H01S5/343 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 周广正;黄瑞;代京京 | 申请(专利权)人 | 中证博芯(重庆)半导体有限公司 |
代理机构 | 重庆信航知识产权代理有限公司 | 代理人 | 中证博芯(重庆)半导体有限公司 |
地址 | 401573 重庆市合川区草街街道嘉合大道500号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供一种新型DBR结构的VCSEL,包括背面设有N面电极的导电衬底,导电衬底的表面自下而上依次生长有N型GaAs缓冲层、N型DBR和量子阱有源区,量子阱有源区表面一区域生长有氧化限制层,氧化限制层的外周同层设有铝氧化产物AlxOy圆环,氧化限制层和铝氧化产物AlxOy的表面设有平面圆形的P型DBR,在铝氧化产物AlxOy和P型DBR同层外周的量子阱有源区表面设有SiO2填充层,P型DBR的表面设有空气隙DBR,SiO2填充层的表面设有P面电极。本申请通过采用空气隙结构DBR,增大了DBR材料的折射率差,减少了DBR对数,进而减小了串联电阻和对光的吸收。 |
