一种化学气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202121397844.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216006011U | 公开（公告）日 | 2022-03-11 |
| 申请公布号 | CN216006011U | 申请公布日 | 2022-03-11 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I;C23C16/448（2006.01）I;C23C16/44（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 林巍;罗雪;丁洁 | 申请（专利权）人 | 厦门中材航特科技有限公司 |
| 代理机构 | 厦门市新华专利商标代理有限公司 | 代理人 | 卢丽红 |
| 地址 | 361000福建省厦门市火炬高新区软件园创新大厦C区3F-A484 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种化学气相沉积设备，包括安置在设备内部的气氛反应室及基体沉积室，气氛反应室与基体沉积室之间设有一分气组件，在气氛反应室内混合、反应完成后的沉积气氛经分气组件进行分气后均匀分散到基体沉积室，基体沉积室的上端连通有多个真空管，真空管的外端连通至真空泵，各真空管上分别设有阀门，各阀门设有控制阀门开闭的执行器，各执行器连接至控制器。本实用新型可使得基体表面均匀沉积，提高基体的表面沉积质量，降低生产成本。 |
