一种高稳定性薄膜监控方法及镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN202110188380.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112553589B | 公开（公告）日 | 2021-06-11 |
| 申请公布号 | CN112553589B | 申请公布日 | 2021-06-11 |
| 分类号 | C23C14/54;C23C14/30;C23C14/08;C23C14/10 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 林兆文 | 申请（专利权）人 | 上海米蜂激光科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李思琼;冯振华 |
| 地址 | 200136 上海市浦东新区泥城镇飞渡路55号3幢厂房A、B单元 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种高稳定性薄膜监控方法及镀膜装置，该方法包括：在镀膜机伞架上的至少三点位置设置膜厚监控系统，得到至少三个瞬时膜厚数据；将该至少三个瞬时膜厚数据代入膜厚分布公式中，求得材料蒸发特性参数n；通过监控该材料蒸发特性参数n值的变化，对薄膜厚度进行监控并实时修正。本发明能够在薄膜批量生产过程中，得到均匀性良好、重复性高，稳定性好的光学薄膜，有效提高高精度镀膜的良品率。 |
