一种透雷达波柔性基底红外滤光膜及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202011226958.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112030115B | 公开(公告)日 | 2021-04-09 |
申请公布号 | CN112030115B | 申请公布日 | 2021-04-09 |
分类号 | C23C14/30(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/26(2006.01)I;C23C14/20(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 原清海;王奔;林兆文 | 申请(专利权)人 | 上海米蜂激光科技有限公司 |
代理机构 | 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李思琼;冯振华 |
地址 | 200136上海市浦东新区泥城镇飞渡路55号3幢厂房A、B单元 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供了一种透雷达波柔性基底红外滤光膜及其制备方法。该柔性基底红外滤光膜基本膜系结构为:Sub|1.2(0.5HL0.5H)10 L(0.5HL0.5H)10 L|Air;其中,Sub为聚酰亚胺柔性基底层,H代表为高折射率材料Ge层,L代表为低折射率材料ZnS层,Air为空气层。该透射雷达波的红外滤光膜的基底异于传统光学基底,该柔性基底一侧的光学薄膜的附着力强,可以实现贴敷与卷绕,拓宽了使用范围,并且实现3~5μm低发射率,10.6μm高发射率,并可透射雷达波,并且本发明的制备方法有效抑制了柔性基底在弯折条件下脱膜情况的发生,提高了薄膜的附着力。 |
