载盘的处理方法
基本信息
| 申请号 | CN201910703561.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112309925A | 公开（公告）日 | 2021-02-02 |
| 申请公布号 | CN112309925A | 申请公布日 | 2021-02-02 |
| 分类号 | H01L21/673(2006.01)I; | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 夏黎明;曹志强 | 申请（专利权）人 | 紫石能源有限公司 |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 梁文惠 |
| 地址 | 102209北京市昌平区科技园区中兴路10号A129-1室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种载盘的处理方法。载盘包括盘体以及位于盘体中的多个凹槽，该处理方法包括以下步骤：去除载盘表面的生长物质，并在除凹槽之外的盘体表面生长水氧吸收材料，水氧吸收材料用于与盘体表面的氧原子结合。上述处理方法在去除盘体表面的生长物质之后，先在盘体表面生长水氧吸收材料，用于与盘体表面的氧原子结合，然后再放置基体进行半导体材料等生长物质的沉积或溅射，通过吸附残余水氧，避免了现有技术中生长物质的去除工艺导致的水氧等杂质的引入，给后续生长创造一个洁净的环境，提高了物质的生长良率，从而提高了产品的串阻升高。 |
