一种用于难钝化磁粉的绝缘粉工艺及其制备的磁粉
基本信息
申请号 | CN201910510303.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN110197752B | 公开(公告)日 | 2021-07-27 |
申请公布号 | CN110197752B | 申请公布日 | 2021-07-27 |
分类号 | H01F1/00(2006.01)I;H01F41/00(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 胡庚;朱圆圆;耿振伟;韩仕杰;王雪珂 | 申请(专利权)人 | 深圳市麦捷微电子科技股份有限公司 |
代理机构 | 深圳市千纳专利代理有限公司 | 代理人 | 袁燕清 |
地址 | 518000广东省深圳市坪山区坑梓街道新乔围工业区新发路5号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种用于难钝化磁粉的绝缘粉工艺及其制备的磁粉,本发明涉及一种用于难钝化磁粉的新型绝缘工艺,本发明的技术方案是在难钝化磁粉的表面先包覆一层易钝化的磁粉,形成类似于“核‑壳”结构:其中难钝化磁粉为“核”,易钝化磁粉为“壳”,然后将包覆好的磁粉进行钝化处理。本发明专利的优点为:1.可在难钝化磁粉表面包覆一层易钝化磁粉后进行钝化处理,可在表面形成均匀致密的钝化膜,绝缘性能高,用此工艺处理的磁粉制造的电子元器件可靠性大大提升;2.用此工艺处理的磁粉的磁导率、饱和磁通密度、矫顽力、涡流损耗、压制性能等都得到了改善。 |
