一种应用在真空镀膜设备上的双驱动转盘系统
基本信息
申请号 | CN202121435854.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN215103522U | 公开(公告)日 | 2021-12-10 |
申请公布号 | CN215103522U | 申请公布日 | 2021-12-10 |
分类号 | C23C14/50(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 王英智;王开亮;王帅;刘洋 | 申请(专利权)人 | 沈阳乐贝真空技术有限公司 |
代理机构 | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 | 代理人 | 王荣亮 |
地址 | 110135辽宁省沈阳市沈北新区七星大街63-71号楼102室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种应用在真空镀膜设备上的双驱动转盘系统,解决现有技术存在的镀膜工艺研发试验过程中,耗费时间较长,试验费用高,设备利用率低的问题。包括其上转动设置有若干组自转轴的下转盘,其特征在于:自转轴上、穿过下转盘的下端,分别设置有小齿轮,小齿轮分别与下转盘下方的自转大齿轮相啮合;自转大齿轮的空芯主轴与主轴轴承座相连,空芯主轴下端的空芯轴从动齿轮,与大齿轮驱动电机输出端的空芯轴主动齿轮相啮合;下转盘的转盘主轴穿过空芯主轴的中部通腔,且与转盘驱动电机的输出端相连。其设计合理,结构紧凑,自转轴可在沉积源前侧自转,有效缩短试验周期、节省费用,既适用于正常生产镀膜,也适用于研发试验,设备使用率高,实用性强。 |
