一种用在真空镀膜设备上的翻转挡板装置
基本信息
| 申请号 | CN202121759653.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215328346U | 公开（公告）日 | 2021-12-28 |
| 申请公布号 | CN215328346U | 申请公布日 | 2021-12-28 |
| 分类号 | C23C14/56（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 郭喜明;王帅;王开亮;张浩 | 申请（专利权）人 | 沈阳乐贝真空技术有限公司 |
| 代理机构 | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 | 代理人 | 王荣亮 |
| 地址 | 110135辽宁省沈阳市沈北新区七星大街63-71号楼102室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种用在真空镀膜设备上的翻转挡板装置，解决现有沉积源遮挡装置存在的移位机构结构复杂，占用空间大，运动灵活性差，故障率高，维护困难，不利于高效生产的问题。包括设置在沉积源前侧的翻转挡板，其特征在于：翻转挡板的上端通过挡板上转轴与镀膜真空室内侧壁顶部的固定箱体转动连接，翻转挡板的下端通过挡板下转轴与镀膜真空室底部的下转轴基座相铰接；翻转挡板上端的挡板上转轴，还通过设置在固定箱体内部的挡板驱动机构、与驱动气缸的气缸伸缩杆相连，且驱动气缸通过气缸连接座固定在镀膜真空室的外侧壁上。其设计合理，结构紧凑，机构占用空间小，能够适用于空间受限的场合，布置方式灵活，使用可靠性高，应用范围广。 |
