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双层曝光结构的显示电浆模组及其制造方法

基本信息

申请号	CN201911324519.4	申请日	-
公开（公告）号	CN110908212A	公开（公告）日	2020-03-24
申请公布号	CN110908212A	申请公布日	2020-03-24
分类号	G02F1/167;G02F1/16753;G02F1/1679	分类	光学;
发明人	包进;陈山;唐振兴;许俊	申请（专利权）人	无锡威峰科技股份有限公司
代理机构	无锡市大为专利商标事务所（普通合伙）	代理人	无锡威峰科技股份有限公司
地址	214028 江苏省无锡市新吴区综合保税区J1-3
法律状态	-

摘要

本发明涉及电子显示领域，具体涉及一种双层曝光结构的显示电浆模组及其制造方法。其中，双层曝光结构的显示电浆模组包括：基板，基板包括显示区和包围在所述显示区外周的衬垫框区；下电极，所述下电极设于所述显示区中，所述下电极包括若干成阵列式排布的像素下电极；上电极，所述上电极设于所述下电极上；显示电浆，所述显示电浆填充在所述上电极和下电极之间；电浆阻离框，所述电浆阻离框设于显示电浆中，所述电浆阻离框包括若干单元框，每个所述单元框对应框在所述像素下电极的外周，所述单元框上设有支撑柱；衬垫边框，所述衬垫边框设在所述衬垫框区中，所述衬垫边框的下端与所述基板耦合密封，上端与上电极耦合密封。本发明能够提高显示效果。