一种非硅哑光双面离型膜及制备工艺
基本信息
| 申请号 | CN201910926053.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110576628A | 公开（公告）日 | 2019-12-17 |
| 申请公布号 | CN110576628A | 申请公布日 | 2019-12-17 |
| 分类号 | B29D7/01（2006.01） | 分类 | 塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工; |
| 发明人 | 崔清臣; 凌红旗; 刘斌; 苟化冲 | 申请（专利权）人 | 中山国安火炬科技发展有限公司 |
| 代理机构 | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 中山国安火炬科技发展有限公司 |
| 地址 | 528437 广东省中山市火炬开发区东镇二路26号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明实施例提供了一种非硅哑光双面离型膜及制备工艺，该离型膜包括依次相连的非硅离型剂层、基材层以及哑光非硅离型剂层，未使用硅油或含硅离型剂，在具有哑光效果的同时降低了生产成本，同时还可以满足电子材料生产厂家对离型膜各方面性能的需求，解决了目前的哑光离型膜因使用硅油或含硅离型剂会造成硅转移，影响胶性能或表面印刷字符性能的问题。 |
