一种微波介质陶瓷表面镀银的PVD工艺
基本信息
| 申请号 | CN202110200646.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113005413A | 公开（公告）日 | 2021-06-22 |
| 申请公布号 | CN113005413A | 申请公布日 | 2021-06-22 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/18;C23C14/54 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 不公告发明人 | 申请（专利权）人 | 昆山市恒鼎新材料有限公司 |
| 代理机构 | 苏州智品专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 王利斌 |
| 地址 | 215000 江苏省苏州市昆山市千灯镇华涛路108号3号房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种微波介质陶瓷表面镀银的PVD工艺，采用真空平面磁控溅射镀膜，首先陶瓷件预处理清洗，进真空室加热，并对真空室抽真空；然后真空室通入氩气，进行离子清洗；最后对陶瓷件进行镀膜，包括：关闭氩气、辅助偏压，在陶瓷件上镀膜Cr层，形成打底层；在打底层上镀膜Ag/Cu/Cr合金层，形成第一过渡层；在第一过渡层上镀膜Ag/Cu合金层，形成第二过渡层；在第二过渡层上镀膜Ag层，完成镀银。本发明的真空平面磁控溅射镀膜工艺，原材料以惰性气体和固体金属靶材为主，在100‑300℃温环境下沉积金属膜；本发明制程短、工艺制程简单、工艺流程环保、成本低且单件产品能耗比低。 |
