一种低彩虹纹聚酯薄膜及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201910233756.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109943027B | 公开（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申请公布号 | CN109943027B | 申请公布日 | 2021-04-20 |
| 分类号 | C08G63/183(2006.01)I;C08G63/85(2006.01)I;C08L69/00(2006.01)I;C08G63/86(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I;C08L33/12(2006.01)I;B32B37/10(2006.01)I;C08L67/00(2006.01)I;C08K5/526(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I;C08L67/02(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 李明勇;王强;李宇航;程凡宝;梁雪芬;徐正扬 | 申请（专利权）人 | 江苏东材新材料有限责任公司 |
| 代理机构 | 北京一格知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 徐文 |
| 地址 | 226600江苏省南通市海安县城东镇开发大道（中）28号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种低彩虹纹聚酯薄膜及其制备方法，所述低彩虹纹聚酯薄膜是由聚酯和表面改性料的混合料经熔融混炼后挤出、铸片、再纵横双向拉伸、热定型而制成；所述聚酯选用特性粘度为0.62～0.68dL/g、熔点为255～265℃、分子量为20000～30000的聚酯；所述表面改性料选用粘度为0.60～0.75dL/g的表面改性材料，且所述表面改性料由质量百分比0.2％～10％的纳米材料和99.8％～90％的分子量为20000～30000的共聚酯组成。本发明的优点在于：本发明生产工艺简单，且制备出低彩虹纹薄膜具有良好的光学性能和优异加工性能，尤其适用于各种光学显示器件领域的导电膜、保护膜和离型膜等。 |
