一种提升匀胶工艺胶膜质量的装置
基本信息
| 申请号 | CN202120204343.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214540377U | 公开（公告）日 | 2021-10-29 |
| 申请公布号 | CN214540377U | 申请公布日 | 2021-10-29 |
| 分类号 | G03F7/16（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 黄强;常俊;李天鹏;朱云彬 | 申请（专利权）人 | 江苏新顺微电子股份有限公司 |
| 代理机构 | 江阴市轻舟专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 孙燕波 |
| 地址 | 214400江苏省无锡市江阴市高新区长山大道78号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种提升匀胶工艺胶膜质量的装置，属于半导体光刻匀胶工艺技术领域。包括匀胶室本体，所述匀胶室本体内设置胶盘，所述匀胶室本体内腔设于竖向布置的匀胶主轴，且所述匀胶主轴穿设胶盘，所述匀胶主轴顶端设置用于吸附硅片的吸盘，所述吸盘外侧围设挡圈，所述挡圈固定于胶盘上；所述匀胶室本体内活动设有可调式喷嘴单元，所述可调式喷嘴单元能够向硅片背面靠近或远离，对硅片背面的残胶进行清理。本申请能够有效阻挡硅片在高速旋转时甩出的光刻胶回溅到硅片正、背面，提高了胶膜质量。手动调节喷嘴喷射角度，喷嘴调至特定的角度后移动至既定位置，喷嘴喷出的液剂对硅片背面的残胶进行清洁，便于清理硅片背面的残胶。 |
