一种计算光刻建模方法及装置
基本信息
| 申请号 | CN201910385455.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110262191B | 公开（公告）日 | 2021-06-08 |
| 申请公布号 | CN110262191B | 申请公布日 | 2021-06-08 |
| 分类号 | G03F7/20;G06F30/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 崔绍春 | 申请（专利权）人 | 墨研计算科学（南京）有限公司 |
| 代理机构 | 北京弘权知识产权代理有限公司 | 代理人 | 逯长明;许伟群 |
| 地址 | 210000 江苏省南京市江北新区星火路9号软件大厦B座407-80室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及集成电路制造技术领域，公开了一种计算光刻建模方法及装置，在该方法中，通过获取测试图形包含的图形单元的类型，确定光学模块组，然后根据光学模块组，获取物理光学模型的参数。计算光学模块组在光刻胶上的理想光强分布，并根据理想光强分布以及光学模块组在所述光刻胶上激发的光化学反应，获取光化学模型的参数。接着模拟测试图形在所述光刻胶上形成的边界位置，并获取所述测试图形的关键尺寸仿真数据，若关键尺寸测量数据与关键尺寸仿真数据之间的拟合误差不大于预设的容许误差，则建立计算光刻模型。本申请公开的计算光刻建模方法，通过建立不同的光学模块对不同的图形单元进行仿真，有效提高了计算光刻模型的精度。 |
