一种计算光刻中掩模版的处理方法及装置
基本信息
| 申请号 | CN201910072613.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109656106B | 公开（公告）日 | 2020-12-04 |
| 申请公布号 | CN109656106B | 申请公布日 | 2020-12-04 |
| 分类号 | G03F7/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 阎江;梁文青 | 申请（专利权）人 | 墨研计算科学（南京）有限公司 |
| 代理机构 | 北京弘权知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 墨研计算科学（南京）有限公司 |
| 地址 | 210031 江苏省南京市江北新区星火路9号软件大厦B座407-80室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开了一种计算光刻中掩模版的处理方法及装置，在所述方法中，通过多边形的顶点数据，获取多边形中边的长度以及方向，并根据所述边的长度以及方向定义多边形的数据格式，令掩模版图形按照所述数据格式进行存储、读取以及传输。相较于现有技术，本申请公开的方法，通过对掩模版图形中多边形的边进行存储，有效的减小了掩模版图形的存储空间，并使得掩模版图形的数据在计算机程序之间能够实现快速读取以及传输。并且，在获取掩模版图形函数时，基于多边形中边的方向，对基本图形函数进行线性组合，提高计算光刻的效率。 |
