一种基于极坐标矢量计算光刻模型的方法及装置
基本信息
| 申请号 | CN201911288282.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110703438B | 公开（公告）日 | 2020-04-17 |
| 申请公布号 | CN110703438B | 申请公布日 | 2020-04-17 |
| 分类号 | G02B27/00;G03F7/20 | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 陈雪莲;周洁云;崔绍春 | 申请（专利权）人 | 墨研计算科学（南京）有限公司 |
| 代理机构 | 北京弘权知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 墨研计算科学（南京）有限公司 |
| 地址 | 210031 江苏省南京市江北新区星火路9号软件大厦B座407-80室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及半导体生产的光刻工艺技术领域，具体而言，涉及一种基于极坐标矢量计算光刻模型的方法及装置。本申请提供一种基于极坐标矢量计算光刻模型的方法，包括：确定光源的极化类型；基于所述极化类型，建立进入光瞳的入射光线场强的传输矩阵，所述传输矩阵描述入射光线场强的传输变化；基于所述光源的极化类型和所述入射光线场强的传输关系，建立矢量计算光刻模型得到描述物理光学的多个交叉传递函数；基于所述物理光学的多个交叉传递函数计算矢量光刻模型在光阻层上的光强分布。 |
