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一种半导体元件清洗装置

基本信息

申请号 CN201720705485.3 申请日 -
公开（公告）号 CN207021237U 公开（公告）日 2018-02-16
申请公布号 CN207021237U 申请公布日 2018-02-16
分类号 H01L21/67;B08B3/12 分类 基本电气元件;
发明人 郭莲朵 申请（专利权）人 合肥协鑫集成光电科技有限公司
代理机构 濮阳华凯知识产权代理事务所（普通合伙） 代理人 王传明
地址 311800 浙江省绍兴市诸暨市暨阳街道双福村赵家埠645号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种半导体元件清洗装置，包括清洗箱、回收箱、处理装置和清洗装置，清洗装置设置在清洗箱内部，清洗装置包括水箱、进水管、出水管、雾化喷头和清洗筒，清洗筒两端连接有连接轴，连接轴外端分别连接有第一液压杆和第二液压杆，水箱内部设置有离心泵，清洗箱两侧均设置有超声波发生器和搅拌轴，回收箱和清洗箱之间通过导通管连接在一起，导通管设置在清洗箱底端，处理装置设置在回收箱内部，该装置一次可以清洗多个半导体元件，且通过气雾方式和水洗方式进行清洗，同时采用搅拌和超声波振荡的方式加快清洗速度，清洗更加干净彻底，同时清洗后的水便于回收循环利用，节能环保，值得推广。