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基于多重稀释法的半导体溶剂ICP-MS测定方法

基本信息

申请号 CN202111257769.8 申请日 -
公开（公告）号 CN113933376A 公开（公告）日 2022-01-14
申请公布号 CN113933376A 申请公布日 2022-01-14
分类号 G01N27/626（2021.01）I 分类 测量；测试;
发明人 宋牧函;孔磊;唐斌;王翼 申请（专利权）人 雅邦绿色过程与新材料研究院南京有限公司
代理机构 南京众联专利代理有限公司 代理人 许小莉
地址 210047江苏省南京市六合区江北新区长芦街道园区西路118号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种基于多重稀释法的半导体化学品ICP‑MS测定方法，包括如下步骤：首先将不能与水混合的待测定的半导体溶剂，加入助溶溶剂成为混合有机溶剂；然后将混合有机溶剂加纯水稀释得到1#稀释样品；再将1#稀释样品再加入纯水进行稀释得到2#稀释样品；对于待测定的半导体溶剂中的一种元素，以1#稀释样品，用电感耦合等离子质谱仪扫描得到标准曲线并计算出1#稀释样品的浓度C1；同理计算出2#稀释样品中该种元素的浓度C2；并将结果带入拟合算法公式，得到该元素在待测定的半导体溶剂中的浓度。本发明通过同一样品不同稀释倍数法，对混合基体ICP‑MS测定的信号值进行背景拟合运算，实现痕量元素的准确测定。