单层双材料微悬臂梁热隔离焦平面阵列的制作方法
基本信息
| 申请号 | CN200510011988.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN1884039A | 公开（公告）日 | 2006-12-27 |
| 申请公布号 | CN1884039A | 申请公布日 | 2006-12-27 |
| 分类号 | B81C1/00(2006.01) | 分类 | 微观结构技术〔7〕; |
| 发明人 | 李超波;陈大鹏;叶甜春;王玮冰 | 申请（专利权）人 | 杭州红芯电子有限公司 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 周国城 |
| 地址 | 100029北京市朝阳区北土城西路3号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种单层双材料微悬臂梁热隔离焦平面阵列的制作方法，包括：1.在单晶硅基片上双面生长氮化硅薄膜；2.用加热的氢氧化钾溶液各向异性腐蚀氮化硅；3.在正面甩正性光刻胶；4.在背面甩正性光刻胶，光学光刻背面窗口图形；5.各向异性刻蚀有光刻图形面；6.去除光刻胶；7.在正面甩正性光刻胶，光学光刻正面氮化硅梁图形；8.在有光刻图形的一面蒸发、剥离铬薄膜；9.各向异性刻蚀有铬薄膜覆盖的氮化硅；10.各向同性腐蚀去除铬薄膜；11.在有氮化硅梁图形的正面甩正性光刻胶，光学光刻正面隔离金图形；12.蒸发、剥离金；13.用加热的氢氧化钾溶液各向异性腐蚀基片，完成镂空的双材料微悬臂梁热隔离结构焦平面阵列的制作。 |
