一种氯硅烷残液生产HCl气体的方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种氯硅烷残液生产HCl气体的方法

基本信息

申请号	CN201510467054.3	申请日	-
公开（公告）号	CN105036081B	公开（公告）日	2017-06-13
申请公布号	CN105036081B	申请公布日	2017-06-13
分类号	C01B7/01(2006.01)I	分类	无机化学;
发明人	黄兵;罗平;陈樑;宋东明;张雯雯;沈宗喜;章江洪;马启坤;李银光;宋良杰;徐灵通;丁炳恒;梁景坤;郑慧文;赵义;王光跃;和雪飙;梁永坤;邓亮;王岭	申请（专利权）人	云南冶金云芯硅材股份有限公司
代理机构	-	代理人	-
地址	650093 云南省昆明市五华区学府路253号
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种氯硅烷残液生产HCl气体的方法，属于多晶硅行业氯硅烷残液资源化的领域。本发明采用搅拌反应釜和吸收塔连用的方式，氯硅烷残液在搅拌反应釜中水解，残液水解产生的H₂、HCl气体和未反应完全的SiCl₄、SiHCl₃、SiH₂Cl₂挥发气，经过吸收塔充分吸收后，99%以上的氯以氯化氢的形式被吸收下来，尾气碱洗后达标排放，吸收塔吸收液进入搅拌反应釜作为残液水解反应吸收剂，浓盐酸经解析产生的HCl气体可回到三氯氢硅的合成工序，解析后的稀盐酸又作为本发明系统的吸收剂，实现了氯的资源循环利用。本发明实现了氯硅烷残液中氯的有效回收和资源化利用，减少进入后续污水处理装置的氯离子的量，降低工厂废水处理成本。