一种改善刻蚀水印的装置及刻蚀机
基本信息
| 申请号 | CN202110729439.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113451442A | 公开（公告）日 | 2021-09-28 |
| 申请公布号 | CN113451442A | 申请公布日 | 2021-09-28 |
| 分类号 | H01L31/18（2006.01）I;H01L21/306（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 周翔;雷佳;黄明;邵辉良;祝春华 | 申请（专利权）人 | 上饶捷泰新能源科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 豆贝贝 |
| 地址 | 330000江西省上饶市上饶经济开发区兴业大道8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种改善刻蚀水印的装置及刻蚀机，改善刻蚀水印装置，包括设置在刻蚀机台用于承载晶片的滚轮，所述滚轮包括旋转轴以及设置在所述旋转轴表面的螺纹结构。通过将现有的台阶型滚轮设计为具有螺纹结构的滚轮，用于承载晶片时，可以减少水的吸附，改善水印的效果。进而提高产品效率/良率，降低化学品耗量，节约生产成本。 |
