光学保护膜用光学树脂及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202010333859.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN111423683A | 公开(公告)日 | 2020-07-17 |
申请公布号 | CN111423683A | 申请公布日 | 2020-07-17 |
分类号 | C08L33/12;C08L69/00;C08L33/08;C08L67/06;C08J5/18;C08J3/22;G02B1/14 | 分类 | 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物; |
发明人 | 胡树;孙立民;刁瑞敏 | 申请(专利权)人 | 四川龙华光电薄膜股份有限公司 |
代理机构 | 深圳市汇信知识产权代理有限公司 | 代理人 | 聚纶材料科技(深圳)有限公司;四川龙华光电薄膜股份有限公司 |
地址 | 518000 广东省深圳市光明区凤凰街道塘家社区塘明公路南侧新纶科技产业园厂房二201 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及一种光学保护膜用光学树脂及其制备方法。其中,光学保护膜用光学树脂包括如下质量份的配方组成:甲基丙烯酸甲酯聚合物的含量为50~90份,耐热稳定剂的含量为10~50份,增容剂的含量为0.2~4.0份,润滑剂的含量为0.3~6.0份,其中,耐热稳定剂为共聚碳酸酯微粉。光学保护膜用光学树脂的制备方法,包括耐热稳定剂的制备、光学树脂母粒的制备、光学树脂的制备等步骤,该方法工艺简单、能耗低、易于实现产业化。与现有技术生产的PMMA光学树脂相比,本发明制备的光学保护膜用光学树脂,在保证基本物理机械性能和光学特性的前提下,具有突出的耐热稳定性和韧性,较低的吸湿性和体积电阻率,表面静电少,不易吸附灰尘。 |
