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一种梯度线圈及梯度线圈制造方法

基本信息

申请号 CN202010368136.3 申请日 -
公开（公告）号 CN111505552A 公开（公告）日 2020-08-07
申请公布号 CN111505552A 申请公布日 2020-08-07
分类号 G01R33/385 分类 -
发明人 刘曙光;王利锋;晏焕华 申请（专利权）人 联影（常州）医疗科技有限公司
代理机构 北京品源专利代理有限公司 代理人 联影（常州）医疗科技有限公司
地址 213125 江苏省常州市新北区奥园路6号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明属于磁共振成像及应用技术领域，公开了一种梯度线圈及梯度线圈制造方法。该梯度线圈包括：相互连接的主梯度线圈和屏蔽梯度线圈，主梯度线圈和屏蔽梯度线圈中每层线圈均通过导体缠绕形成，主梯度线圈和屏蔽梯度线圈中至少一层线圈为双层导体结构。该梯度线圈用双层导体结构，其产生的梯度场的耦合叠加，可以实现在相同电流情况下，比单层线圈高出1.5倍‑2倍的梯度强度，从而可以用于磁共振成像的一些高级序列应用。另外，可以提供了更多线圈设计自由度,通过优化的设计算法，双层导体结构分布可以更精确地逼近理想梯度电流分布,产生更准确的梯度磁场，可以实现更高的梯度线性度，从而使磁共振扫描图像更清楚准确。