一种抗静电的AR膜及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110455297.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112987135A | 公开（公告）日 | 2021-06-18 |
| 申请公布号 | CN112987135A | 申请公布日 | 2021-06-18 |
| 分类号 | G02B1/11;G02B1/111;G02B1/16 | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 胡业新;于佩强;高毓康;宋尚金 | 申请（专利权）人 | 江苏日久光电股份有限公司 |
| 代理机构 | 苏州科仁专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 郭杨 |
| 地址 | 215300 江苏省苏州市昆山市周庄镇锦周公路509号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种抗静电的AR膜及其制备方法，包括基材层，所述基材层的双面通过涂布工艺分别设有上底涂层和下底涂层，所述上底涂层和下底涂层上通过涂布工艺分别设有上IM层和下IM层，所述上IM层上通过涂布工艺设有AR树脂层，所述AR树脂层上通过磁控溅射工艺镀设有上镀层，所述上镀层上贴设有上CPP保护膜，所述下IM层上通过磁控溅射工艺镀设有下镀层，所述下镀层上贴设有下CPP保护膜，可将基材透过率从89%提高到99%以上，并且可以广泛适用于各种PET基材以及玻璃基材上，表面阻抗达到10+6ohm，抗静电果佳效。 |
