一种用于匀化基模光强分布的有源光纤及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202210084541.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114114527B | 公开（公告）日 | 2022-05-20 |
| 申请公布号 | CN114114527B | 申请公布日 | 2022-05-20 |
| 分类号 | G02B6/036（2006.01）I;G02B6/02（2006.01）I;C03B37/018（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 王一礴;徐中巍;胡雄伟;廖雷 | 申请（专利权）人 | 武汉长进光子技术股份有限公司 |
| 代理机构 | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 430000湖北省武汉市东湖新技术开发区流芳大道52号凤凰产业园（武汉-中国光谷文化创意产业园）B地块5幢1层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于匀化基模光强分布的有源光纤及其制备方法，该有源光纤包括由内至外依次排布的光纤纤芯、内包层和外包层，光纤纤芯包括掺有稀土离子的内纤芯和不掺有稀土离子的外纤芯。本发明通过内纤芯掺入稀土离子且外纤芯不掺稀土离子的设置方式，实现了纤芯传输基模光强分布的均匀化，缩小纤芯径向位置之间的功率密度差距，扩大纤芯模场面积，并且利用不掺入稀土离子的外纤芯，使高阶模与掺有稀土离子的增益区域的重叠因子显著降低，达到抑制高阶模增益的效果；同时，也降低了光纤纤芯承受的最高功率密度，从而提高有源光纤的非线性阈值。 |
