一种PI蚀刻液电解再生系统
基本信息
| 申请号 | CN202022722802.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213739697U | 公开（公告）日 | 2021-07-20 |
| 申请公布号 | CN213739697U | 申请公布日 | 2021-07-20 |
| 分类号 | C23F1/46（2006.01）I;C25B1/00（2021.01）I;C25B9/00（2021.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 方磊;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 | 申请（专利权）人 | 上达电子（深圳）股份有限公司 |
| 代理机构 | 徐州市三联专利事务所 | 代理人 | 张帅 |
| 地址 | 518100广东省深圳市宝安区沙井街道黄埔社区南环路黄埔润和工业园A栋厂房1-4层、D栋2-3层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种PI蚀刻液电解再生系统，属于蚀刻液电解技术领域。包括PI蚀刻液储槽、泵、过滤器和电解再生装置，所述的过滤器设置在PI蚀刻液储槽底部循环PI蚀刻液储槽内的PI蚀刻液，所述的电解再生装置设置在PI蚀刻液储槽的一侧，电解再生装置与PI蚀刻液储槽相通，PI蚀刻液储槽内的PI蚀刻液从PI蚀刻液储槽的槽体底部通过泵抽至电解再生装置内，电解再生装置电解再生后将PI蚀刻液再抽回PI蚀刻液储槽。本实用新型的有益效果是：本实用新型通过电解再生装置，提高药液中高锰酸根离子浓度，延长药液寿命，节省药水成本；减少药液使用，将产生的无用成分回收利用，减少废液产生，减少环境污染，降低废水处理成本。 |
