一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201811542263.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111320944A | 公开（公告）日 | 2020-06-23 |
| 申请公布号 | CN111320944A | 申请公布日 | 2020-06-23 |
| 分类号 | C09J7/29(2018.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 金国华 | 申请（专利权）人 | 浙江欣麟新材料技术有限公司 |
| 代理机构 | 宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 浙江欣麟新材料技术有限公司 |
| 地址 | 321102浙江省金华市兰溪经济开发区创业大道13号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法，包括离型底膜层及功能层，所述功能层沿远离所述离型底膜层方向依次包括安装硅胶层、使用基膜层、HC层、保护硅胶层和保护基膜层，所述使用基膜层包括若干层使用基膜，其中所述使用基膜的至少一面设置有防腐蚀易接着层，所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅涂层中的一种或几种的组合。本发明的保护膜，通过在使用基膜层的使用基膜上预先涂覆防腐蚀易接着层，可以有效提高涂胶后产品的撕裂强度。 |
