一种高强度屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种高强度屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法

基本信息

申请号	CN201811558964.2	申请日	-
公开（公告）号	CN111334209A	公开（公告）日	2020-06-26
申请公布号	CN111334209A	申请公布日	2020-06-26
分类号	C09J7/29(2018.01)I	分类	-
发明人	金国华	申请（专利权）人	浙江欣麟新材料技术有限公司
代理机构	宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	浙江欣麟新材料技术有限公司
地址	321102浙江省金华市兰溪经济开发区创业大道13号
法律状态	-

摘要

本发明提供一种高强度屏下指纹识别光电保护膜，所述光电保护膜由上而下依次设置有特殊材质树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、PC材质基膜层、第二硅胶层及特殊材质树脂离型膜层，所述PC材质基膜层为低相位差薄膜，所述低相位差薄膜的Re和Rth两个方向的相位差小于30nm；所述制备方法为先在所述PC材质基层膜上涂布防腐蚀易接着层，然后各层依次进行叠合即可得；通过上述技术方案提供的光电保护膜，PC材质基膜层选用低相位差薄膜，不存在大的相位差，能够有效提高对所述光电保护膜对指纹的识别度和响应速度；且手机贴上该保护膜后，使用者佩戴偏光眼镜或太阳眼镜也可正常观看屏幕，不会出现看屏幕色彩虚影失真的问题，保真度得到了保证。