适用于制备低电阻薄膜的石墨载具
基本信息
| 申请号 | CN202122935859.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216378390U | 公开（公告）日 | 2022-04-26 |
| 申请公布号 | CN216378390U | 申请公布日 | 2022-04-26 |
| 分类号 | C23C16/458（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 朱家宽;张开江;陆勇;戴虹;钟文兵;孙海晨 | 申请（专利权）人 | 理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 代理机构 | 上海恒锐佳知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 黄海霞 |
| 地址 | 201620上海市松江区思贤路3255号3幢402 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种适用于制备低电阻薄膜的石墨载具，包括连接组件、固定件和第一连接杆；所述固定件包括若干第一固定件和若干第二固定件，且所述若干第一固定件和所述若干第二固定件的两端部分别与所述连接组件连接；所述第一连接杆贯穿连接所述若干第一固定件和所述若干第二固定件，且所述第一连接杆与所述若干第一固定件和所述若干第二固定件中的任意一种接触设置，所述第一固定件和所述第二固定件交替设置。该石墨载具解决了在低电阻薄膜制备过程中所述第一固定件和所述第二固定件电位相同，无法引起辉光放电，导致镀膜减慢或中止的问题。 |
