膜层及其制备方法和发光器件及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110569434.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113299866A | 公开（公告）日 | 2021-08-24 |
| 申请公布号 | CN113299866A | 申请公布日 | 2021-08-24 |
| 分类号 | H01L51/56;H01L51/50 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 蒋畅;程陆玲 | 申请（专利权）人 | 合肥福纳科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 唐菲 |
| 地址 | 230000 安徽省合肥市新站区新蚌埠路与魏武路交叉口佳海工业城G91栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及一种膜层及其制备方法和发光器件及其制备方法，属于发光器件技术领域。一种膜层的制备方法，包括将含硫有机物溶液涂覆于基底的表面形成溶液层，在溶液层上旋涂氧化锌溶液，再进行热处理；或将氧化锌溶液涂覆于基底的表面形成溶液层，在溶液层上旋涂含硫有机物溶液，再进行热处理。通过对电子传输层ZnO表面进行硫化，原位生成更为稳定的ZnS，形成复合的ZnO/ZnS层，该复合层增强了电子传输层的势垒高度，可以降低电子传输速率，有利于电荷注入平衡，提高了电子传输层的稳定性。 |
