一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器
基本信息
| 申请号 | CN202010710544.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112030134A | 公开（公告）日 | 2020-12-04 |
| 申请公布号 | CN112030134A | 申请公布日 | 2020-12-04 |
| 分类号 | C23C16/40;C23C16/511;C23C14/06;C23C14/10;C23C14/30;C23C14/35;C23C28/04 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 孙耀明;彭晓华;陈寿;王鑫;李彦灼;刘晓东;江俊灵;肖艳苹 | 申请（专利权）人 | 深圳市八六三新材料技术有限责任公司 |
| 代理机构 | 深圳市君胜知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 深圳市八六三新材料技术有限责任公司 |
| 地址 | 518117 广东省深圳市龙岗区龙岗大道(坪地段)1001号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器。所述基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器的容器壁包括：透明容器壁，设置在所述透明容器壁的内壁上的纳米阻隔层、设置在所述透明容器壁的外壁上的第一介质层、设置在所述第一介质层上表面的第二介质层其中，所述第二介质层的折射率低于所述第一介质层的折射率。本发明将所述纳米阻隔层设置在所述透明容器内壁一侧，而将第一介质层和第二介质层设置在所述透明容器外壁一侧，克服了在纳米阻隔层上镀制多层介质膜致使该侧膜层太厚造成的微缺陷，导致的阻隔性降低的问题；所述纳米阻隔层、透明容器、第一介质层和第二介质层组成光学干涉膜，呈现出一定颜色。 |
