一种光学镀膜机以及融料保护罩
基本信息
| 申请号 | CN202021697255.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212833998U | 公开（公告）日 | 2021-03-30 |
| 申请公布号 | CN212833998U | 申请公布日 | 2021-03-30 |
| 分类号 | C23C14/30(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 官敏 | 申请（专利权）人 | 武汉锐晶激光芯片技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京众达德权知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘天虹 |
| 地址 | 430000湖北省武汉市未来科技城A5北C1栋902室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种光学镀膜机以及融料保护罩，光学镀膜机包括真空室、坩埚、融料加热装置和融料保护罩，坩埚、融料加热装置和融料保护罩均位于真空室中，融料保护罩罩扣于坩埚上，真空室上设有观察窗；融料保护罩包括顶盖和多块非磁性挡板，多块非磁性挡板分别与顶盖的边缘连接、构成罩体，多块非磁性挡板围成一个至少一面开口的多面体围挡，坩埚位于多面体围挡中，多面体围挡的至少一个开口面向观察窗。本申请通过在光学镀膜机的坩埚上设置融料保护罩，靶材融料过程产生的细微粉末和飞溅膜料通过融料保护罩可以约束扩散方向以便减少对腔室的污染，更利于清洁，从而使真空腔室内的洁净度更高，提升镀膜产品良率。 |
