一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置
基本信息
| 申请号 | CN202111526881.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114290223A | 公开（公告）日 | 2022-04-08 |
| 申请公布号 | CN114290223A | 申请公布日 | 2022-04-08 |
| 分类号 | B24B29/06（2006.01）I;B24B41/00（2006.01）I;B24B55/06（2006.01）I;B24B27/00（2006.01）I;B24B55/00（2006.01）I;B24B55/02（2006.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 江沐风;吴登钱;万云辉;吉云飞 | 申请（专利权）人 | 朗峰新材料启东有限公司 |
| 代理机构 | 北京盛凡佳华专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 胡欢 |
| 地址 | 226200江苏省南通市启东市南阳镇朗峰路1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，包括自服务型间歇运动式控尘机构、柔性化无源抛光收卷集成机构、坐立触发式供源机构、主容纳外壳和支撑脚。本发明属于纳米晶带材加工领域，具体是指一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置；本发明有效解决了目前市场上用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置功能单一、难以自动实现纳米晶带材的抛光和收卷、难以在运作时自动对粉尘进行控制、可调节性差的问题。 |
