一种三维沟槽型高压SOI-LIGBT结构

基本信息

申请号 CN202022964317.0 申请日 -
公开(公告)号 CN213988865U 公开(公告)日 2021-08-17
申请公布号 CN213988865U 申请公布日 2021-08-17
分类号 H01L23/12(2006.01)I;H01L23/00(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 周炳;赵承杰;王源政 申请(专利权)人 张家港意发功率半导体有限公司
代理机构 苏州国诚专利代理有限公司 代理人 王丽
地址 215600江苏省苏州市张家港经济开发区(国泰北路1号留学生创业园)
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种三维沟槽型高压SOI‑LIGBT结构,包括器件本体,器件本体的下端固定有挡板,挡板之间固定有螺纹杆,螺纹杆上滑动设置有杆套,杆套上固定有衔接块,衔接块上固定有底脚,底脚上设置有安装孔。通过底脚的移动,使得器件本体在固定时,可配合实际安装位置进行调整,同时,绕线柱能够对多余的导线进行缠绕,避免线路过长出现拉扯断线的情况,收紧帽能够对缠绕的导线进行包裹收紧。