一种氯酸钠型酸性蚀刻液离线再生系统
基本信息
| 申请号 | CN201510751859.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106676527B | 公开（公告）日 | 2019-03-08 |
| 申请公布号 | CN106676527B | 申请公布日 | 2019-03-08 |
| 分类号 | C23F1/46（2006.01）I; C25B1/26（2006.01）I; C25C1/12（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘伟伟; 谭涛; 耐迪·萨多克 | 申请（专利权）人 | 桥德联合自动化（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 北京众元弘策知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 库特勒环保科技（苏州）有限公司 |
| 地址 | 215000 江苏省苏州市苏州高新区泰山路6号2幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种氯酸钠型酸性蚀刻液离线再生系统，包括氯酸钠制备单元、电解单元、钠离子回用单元、氯酸暂存槽、提铜电元、再生单元、电解液暂存槽、刻蚀槽；所述蚀刻液离线再生系统，通过工艺管道和输送泵依次连接有氯酸钠制备单元、电解单元、钠离子回用单元、氯酸暂存槽、提铜电元、再生单元、电解液暂存槽、刻蚀槽；并通过控制器控制输送泵和阀组，调节和控制整体再生系统的运行；本发明电解单元制备氯酸钠；直接电解方式从蚀刻废液中提取出铜板，同时能够再生出HClO3和Cu(ClO3)2药液，保证高效蚀刻速率的同时实现氯酸钠型刻蚀液零添加零排放循环再生运行；再生系统整套采用离线方式、操作方便、能耗低；直接高效提取出有韧性高质量铜板。 |
