一种ICP刻蚀机
基本信息
| 申请号 | CN201720416663.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN206628442U | 公开（公告）日 | 2017-11-10 |
| 申请公布号 | CN206628442U | 申请公布日 | 2017-11-10 |
| 分类号 | H01J37/20(2006.01)I;H01J37/305(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 梁万国;李广伟;张新汉;陈怀熹;缪龙;冯新凯;邹小林 | 申请（专利权）人 | 福建睿创光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 福州科扬专利事务所 | 代理人 | 福建中科晶创光电科技有限公司;福建睿创光电科技有限公司 |
| 地址 | 350100 福建省福州市闽侯县上街镇科技东路中科院海西研究院（中国科学院福建物质结构研究所）3号楼726室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种ICP刻蚀机，包括竖直截面为U字形的底座和与底座铰接的可开合的上盖；上盖内设置有工作气体进气口和功率源；所述底座内从上至下依次设置有放置晶片的转盘和托盘；所述转盘可在水平方向上转动；所述托盘由一固定在底座内底面的液压装置驱动升降；该刻蚀机可以使离子源更均匀的刻蚀晶片。 |
