一种基片曝光吸盘
基本信息
| 申请号 | CN201721777171.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN207541410U | 公开（公告）日 | 2018-06-26 |
| 申请公布号 | CN207541410U | 申请公布日 | 2018-06-26 |
| 分类号 | G03F7/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 梁万国;李广伟;陈怀熹;缪龙;冯新凯;邹小林 | 申请（专利权）人 | 福建睿创光电科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 350108 福建省福州市闽侯县上街镇科技东路中科院海西研究院(中国科学院福建物质结构研究所)3号楼726室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种基片曝光吸盘；包括吸盘主体，还包括载片、负压抽嘴、压力表和压力调节阀；所述吸盘主体的内腔内具有一圈凸台；所述凸台上嵌有一圈密封圈；所述载片通过所述密封圈可拆卸安装在所述凸台上，其中所述载片的外表面上设有一个卡固组件；所述负压抽嘴、压力表和压力调节阀均设于所述吸盘主体上，且与所述吸盘主体的内腔连通。在曝光过程中，使用本实用新型代替常规的夹持夹具，本实用新型吸附压力稳定、不易脱片、基片变形量小，特别是对于厚度较薄的基片，对保证基片的形变量更有效。 |
