一种用于电镀液的羟基烷磺酸的制备工艺
基本信息
| 申请号 | CN89103987.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN1025562C | 公开（公告）日 | 1994-08-03 |
| 申请公布号 | CN1025562C | 申请公布日 | 1994-08-03 |
| 分类号 | C07C309/08;C25D3/60 | 分类 | 有机化学〔2〕; |
| 发明人 | 陈之文;廖湘旭;钱伟强;丁桢祥;谭德顺;孙德平 | 申请（专利权）人 | 机械工业第二设计研究院有限公司 |
| 代理机构 | 浙江省专利事务所 | 代理人 | 机械电子工业部第二设计研究院;杭州滚镀厂 |
| 地址 | 310022浙江省杭州市石桥路84号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种用于电镀工艺的羟基烷磺酸的制备工艺，产晶广泛用于电镀工艺。以羟基烷磺酸的碱金属盐为原料，用固体Ba(OH)2·8H2O将其中有害的SO4＝SO3＝进行除杂分离，然后用强酸性阳离子交换树脂进行离子交换转型，得到适合电镀工艺要求的羟基烷磺酸，本工艺操作简单，效果好，生产成本大大降低，具有产品无毒，简化三废处理、节省能耗等优点，制得的产品特别适用于锡铅电镀工艺，能获得优良的镀层，外表达到全光亮水平。 |
