一种磁控溅射镀膜用铝罩
基本信息
| 申请号 | CN200720066580.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN201012933Y | 公开（公告）日 | 2008-01-30 |
| 申请公布号 | CN201012933Y | 申请公布日 | 2008-01-30 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01) | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 程远达;余前春;夏黎海;丁亚强 | 申请（专利权）人 | 上海贺利氏工业技术材料有限公司 |
| 代理机构 | 上海科盛知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵志远 |
| 地址 | 201108上海市闵行区桥颛镇光中路1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种磁控溅射镀膜用铝罩，该铝罩外部和内腔表面形貌中沉积靶材材料较多的表面为规则或不规则沟槽结构，铝罩所有表面为含不同颗粒尺寸沙的喷沙，喷铝，或喷沙和喷铝两种共同处理的表面结构。与现有技术相比，增加了沉积靶材材料与铝罩表面的接触面积和粘接强度，大大降低了沉积靶材材料脱落的几率和靶材原子对真空室的污染。 |
