一种匀胶显影机的显影方法
基本信息

| 申请号 | CN202010754884.5 | 申请日 | - |
| 公开(公告)号 | CN111965957A | 公开(公告)日 | 2020-11-20 |
| 申请公布号 | CN111965957A | 申请公布日 | 2020-11-20 |
| 分类号 | G03F7/30 | 分类 | 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 丁桃宝 | 申请(专利权)人 | 江苏晋誉达半导体股份有限公司 |
| 代理机构 | 苏州金项专利代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 江苏晋誉达半导体股份有限公司 |
| 地址 | 215600 江苏省苏州市张家港经济技术开发区福新路2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要

| 摘要 | 本发明公开了一种匀胶显影机的显影方法,包括以下步骤:S1、将晶圆输送至旋转台上;S2、旋转台匀加速至900‑1200rpm并匀速持续50‑60S,显影液喷淋至晶圆表面;S旋转台匀减速至150‑200rpm并匀速持续25‑30S,显影液持续喷淋;S4、旋转台匀减速至0并保持25‑35S,停止喷淋显影液;S5、旋转台匀加速至1050‑1150rpm并持续30‑40s,显影液持续喷淋;S6、旋转台匀减速至150‑200rpm并匀速持续50‑55S,显影液喷嘴停止喷淋并用去离子水清洗;S7、旋转台匀加速至1500‑1600rpm并持续30‑35S;S8、对晶圆表面吹扫氮气持续25‑30S;S9、旋转台停止并将晶圆移出。该显影方法可以改善晶圆线条宽度的均匀性和表面图案的一致性,提高芯片的良品率。 |





